磁控溅射中Ar离子轰击靶材后他的去向如何?是一直留在靶材中还是后面会溢出靶材?
先解释Ar原子是如何变成Ar离子的:当电场中阴阳两极间电位达到临界电离电压后,通过其中的气体分子分发生电离,其气体分子的最外层电子被剥离出来,其中一部分射向阳极,一部分由于洛伦兹力的作用环绕磁力线运动而被束缚在靶附近,这部分环绕的电子在加速运动中获得了极大的动能后继续与气体分子碰撞,撞击出更多的电子和Ar正离子。
Ar正离子在电场的作用下射向阴极靶材。
Ar离子轰击到靶材后,所带的正电荷会被靶表面所带的电子中和,重新变成中性原子,因为Ar在通常状态下呈气态,所以绝大部分Ar原子会溢出靶表面,被分子泵抽走。但是也有极少部分Ar原子由于能量过高,嵌入靶材过深,导致难以溢出,就会留在靶的浅表面,一般情况下,这部分Ar原子是不会和金属靶材发生反应的,它以单质的形式存在,并且会随着时间的推移慢慢逸出靶表面。
你感兴趣的话可以去做一个不同工艺条件下随时间推移靶材表面Ar原子残留量的成分分析实验,为了得到一个定量的结果,建议采用EDS或XPS进行。
(当然不排除Ar和金属反应这种可能,由于我知识量有限,尚未查到这方面的介绍,如果有,请补充)。